集積回路産業への静電気の害
まず、ESAです。 深刻な汚染を引き起こす可能性があるElectroStaticAtraction静電吸着。
私たちは、IC製造プロセスがクリーンなワークショップかクリーンなワークショップを必要とすることを知っています。 しかし、クリーンルーム内でパーティクルを発生させることができる国内メーカーはほとんどありません。 これで、ダスト粒子サイズは0.3μmから0.1μmに減少しましたが、吸着されたダスト粒子の粒子サイズが線幅よりも大きい場合。 製品を廃棄するのは簡単です。
時々顧客は私達のウェーハ製造の全工程の静電保護が非常によく、接地が接続され、使用される帯電防止装置も使用され、そして精製レベルも非常に高いのである、なぜそれを置くのかしばらくの間、あなたはまだ灰を吸いますか？ これは、ウェーハを製造する機械または工場にFFU高性能フィルターが装備されているためです。 気流が製品をこすると、静電気が発生します。 静電気がある程度蓄積すると、ほこりを吸収します。 したがって、空間全体の動的バランスを確保するために、高効率フィルタの下端にガス源のない静電気除去装置を設置することをお勧めします。
第二に、ESDです。 静電気放電静電放電。デバイスの故障の原因となります。
静電放電は電荷蓄積のプロセスです。 電荷がある程度蓄積すると、導体がそれに近づくと放電が発生します。 非常に単純な例として、乾いた冬には、人々は歩いたり擦ったりした後に静電気を簡単に蓄積することができます。 金属製のハンドルに触れるか、車のドアを開くと、感電する可能性があります。 これが静電気放電です。 一般的に人体は3000です。静電気が-5000Vの時は明らかな放電感があります。
半導体部品についても同様です。 一定量の静電気を帯びた半導体装置を単体で配置したり、回路モジュールに搭載したりすると、ただちに故障します。 デバイスが静電気放電の影響を受けた後は、直ちに機能上の損傷が生じることはありませんが、コンポーネントの信頼性に影響を与えます。
静電気放電による損傷は、年間数十億ドルに達することがあります。 その結果、多くの大規模部品および機器製造業者は、生産環境における静電気の蓄積を減らすための専門知識を導入してきました。
第三に、EMIです。 ElectroMagneticInterference電子干渉。損傷の原因となることがあります。
静電放電は多くの電波を放射します。これらの波は周波数に依存しているため、プログラム命令の混乱、データの混乱、未知のエラーメッセージなど、周囲のマイクロプロセッサに大きな干渉を引き起こします。失敗した場合、それがもたらす害は甚大です。
上記の危険によって引き起こされる損傷は素晴らしいです。 関連する報道によると、中国の電子産業における静電気による直接的な経済的損失は、年間数十億元にも達します。 米国の静電気による電子産業の直接的な経済的損失は、年間100億米ドル以上です。 イギリスも20億ポンド近くを失った。 日本の1990年代には、未認定のマイクロ電子デバイスの45％が静電気によるものでした。